人类过多地使用氯氟烃类化学物质(用CFCs表示)是臭氧层被破坏的主要原因。氯氟烃是一种人造化学物质,1930年由美国的杜邦公司投人生产。
进入大气中的氯氟烃,只有一部分参与臭氧层破坏作用,大部分还在大气中游荡,因而,虽然现在很多地方已停止生产和使用氯氟烃,臭氧层仍然会继续遭到破坏。
臭氧层破坏的主要原因如下:一般认为,太阳活动引起的太阳辐射强度变化,大气运动引起的大气温度场和压力场的变化以及与臭氧生成有关的化学成分的移动、输送都将对臭氧的光化学平衡产生影响,从而影响臭氧的浓度和分布。
人类过多地使用氯氟烃类化学物质(用CFCs表示)是臭氧层被破坏的主要原因。氯氟烃是一种人造化学物质。在第二次世界大战后,尤其是进入20世纪60年代以后,氯氟烃大量用作气溶胶、制冷剂、发泡剂、化工溶剂等。
1、臭氧层被破坏的主要原因是人们大量使用氯氟烃、四氯化碳、甲烷等物质,加速了臭氧层的破坏。比如我们平时所用的空调,它需要氟利昂来工作,氟利昂气体比空气轻,一经释放,会慢慢上升到地球大气圈的臭氧层顶部。
2、地球臭氧层破坏的主要原因是人类广泛使用和排放氯氟烃类化合物造成的。
3、地球臭氧层破坏的主要原因是人类广泛使用和排放()而造成的。
4、每一个氯原子约可破坏一万个以上的臭氧分子。就是这样一个过程,使南极上空出现了臭氧层空洞,北极上空臭氧层也在变薄。此外,氟氯烃化物所产生的温室效应是臭氧的十倍,可见氟氯碳化物所导致的自然环境破坏是不可忽视的。
5、臭氧层破坏的原因主要是由于人类过多地使用氯氟烃类化学物质。哈龙类物质(用于灭火器)、氮氧化物也会造成臭氧层的损耗。
1、人类过多地使用氯氟烃类化学物质(用CFCs表示)是臭氧层被破坏的主要原因。氯氟烃是一种人造化学物质,1930年由美国的杜邦公司投人生产。
2、主要是因为氟氯代烷的过度排放。臭氧层主要是由臭氧组成的,臭氧分子在自然状态下会少量转化为氧分子,但这种转化对臭氧层的形象几乎可忽略。
3、氯氟烃类化学物质(用CFCs表示)是破坏臭氧层的主要原因。另外,哈龙类物质(用于灭火器)、氮氧化物也会造成臭氧层的损耗。
4、从而进一步破坏臭氧层。总之,臭氧层被破坏的主要原因包括CFCs的使用、车辆和工厂排放以及热带雨林的破坏等。我们应该采取措施保护臭氧层,包括减少CFCs的使用、减少车辆和工厂的排放、保护热带雨林等。
进入大气中的氯氟烃,只有一部分参与臭氧层破坏作用,大部分还在大气中游荡,因而,虽然现在很多地方已停止生产和使用氯氟烃,臭氧层仍然会继续遭到破坏。
氟氯烃化合物是致使其耗竭的祸首(尤其是氟里昂)。它们可长期、稳定地存在于高空,经光解产生活性氯自由基(C1·)及氯氧自由基(C10·),再起催化剂作用使臭氧(O3)不断耗损。
破坏臭氧层物质很多,一般有还原性的物质均有可能使之破坏,因臭氧有强氧化性。如二氧化硫,一氧化氮等。另像氟氯代烷(商品名为氟利昂)、氮的氧化物对臭氧层破坏起到催化剂的作用,其破坏性更强。
会破坏臭氧层的是氟氯烃。氟利昂是一种常见的制冷剂,其种类很多,常见的有R2R3R134a等。氟利昂一般在常温常压下均为气体,略有芳香味。在低温加压情况下呈透明状液体。